更新时间:2023/4/26 8:04:54  文章录入:admin  责任编辑:admin
【ITBEAR科技资讯】4月24日消息,据外媒报道,台积电已于去年12月29日正式开始商业化生产鳍式场效应晶体管架构的3nm制程工艺。虽然较三星电子晚了近半年,但仍被业界看好。台积电CEO魏哲家在一季度的财报分析师电话会议上表示,他们的3nm制程工艺以可观的良品率量产,在高性能计算和智能手机应用需求的推动下,客户对3nm制程工艺的需求超过了他们的产能,他们预计今年的产能将得到充分利用。魏哲家在会上透露,他们的3nm制程工艺,预计从三季度开始就将为他们带来可观的营收。在他们今年全年晶圆代工业务收入中所占的比例预计为中等个位数。从功耗、性能和面积及晶体管技术来看,他们的3nm制程工艺都是目前最先进的半导体技术。因此,他们预计客户对他们的3nm制程工艺的强劲需求将持续多年,他们有信心3nm制程工艺家族成为他们另一个大而持久的工艺节点。据ITBEAR科技资讯了解,台积电的3nm制程工艺已经在客户中获得广泛应用。在魏哲家看来,3nm制程工艺的强劲需求将是长期的,他们将继续加大对此领域的投资,并持续推动技术进步。 打印本文 打印本文  关闭窗口 关闭窗口